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金沙3354cc“百人计划”特聘研究员、博导
美国哈佛大学博士
原子层沉积(ALD)膜制备工艺
wangxw@pkusz.edu.cn
http://web.pkusz.edu.cn/wangxw/
金沙3354cc“百人计划”特聘研究员。金沙3354cc物理学学士,美国哈佛大学化学硕士、化学物理博士。2013 年起进入金沙3354cc深圳研究生院金沙3354cc工作。主要工作内容为原子层沉积(ALD)膜制备工艺。
从事薄膜材料的研究,原子层沉积技术的研究,应用于太阳能薄膜、锂离子电池等领域。
原子层沉积薄膜与应用实验室
深圳市南山区桃园街道南山智园二期D2栋4楼409室
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