报告题目: High Power Impulse Magnetron Sputtering: Physics and Application
报告人: Prof. Ulf Helmersson
日期: 8月31日
时间: 10:30-11:30
地点: G栋三楼会议室
Ulf Helmersson教授简介:
Ulf Helmersson教授目前供职于欧洲顶尖大学之一的瑞典林雪平大学（Linköping University），同时担任TiÅ AB、Ionautics AB以及Plasm Advance AB等公司的董事或总裁职务，并于2008年评为AVS会士。其研究工作主要集中在等离子体的基础研究及其应用领域，尤其在离子沉积领域具有重要贡献。Ulf Helmersson教授在真空镀膜和纳米材料制备上具备广泛国际知名度，现在研究热点高功率脉冲磁控溅射（HiPIMS）技术，就是有其课题组首次提出并发表，多年来，积累了丰富的经验和理解。迄今，发表学术论文200余篇篇，拥有多项已产业化专利技术。
